Claus Pias, »Punkt und Linie zum Raster«, in: Ornament und Abstraktion: Kunst der Kulturen, Moderne und Gegenwart im Dialog [anlässlich der Ausstellung »Ornament und Abstraktion - Kunst der Kulturen, Moderne und Gegenwart im Dialog« in der Fondation Beyeler, Riehen, Basel 10. Juni - 7. Oktober 2001], (ed.) Markus Brüderlin (Köln: DuMont, 2001)


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 urldate = {04.08.2009},
 pages = {64-69},
 publisher = {DuMont},
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 editor = {Br\"{u}derlin, Markus},
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